英伟达新旗舰GPU Blackwell曝光，将支持DP 2.1技术

　　英伟达即将推出的下一代GeForce RTX 50系列显卡（代号Blackwell）将采用最先进的台积电3纳米工艺制造。同时，该系列显卡还将使用DisplayPort 2.1标准。据悉，Blackwell GPU将应用于RTX 50系列显卡，并且其性能方面将取得显著提升。

　　Kopite7kimi透露，英伟达正在准备推出Blackwell GPU，并将其应用到RTX 50系列显卡中。这些新一代显卡将建立在台积电的先进3nm工艺上。与目前使用的5nm工艺相比，3nm工艺技术提供了更大幅度的功耗降低和性能增强。每个晶体管的性能提高了约15%，功耗降低了约30%。此外，面积减少了42%，密度增加了1.7倍。这意味着即便是在现有的40系“Ada Lovelace”阵容中，“5nm”节点已经提供了惊人的每瓦性能效率，因此人们对50系显卡的提升抱有很高期望。

　　英伟达游戏卡将使用GDDR7内存解决方案，这是多年来首次采用相同命名约定的架构。这一消息让游戏玩家和高性能计算领域的专业人士都备受期待。

　　据悉，英伟达公司将在其即将推出的图形架构中支持最新技术，这意味着未来的显卡产品有望拥有更出色的性能和表现。不过，一些人对40系显卡上取消DP 2.1功能表示遗憾。

　　尽管如此，英伟达的决策显然是为了更好地满足市场需求，并不断创新。相信随着时间的推移，英伟达的产品将会给用户带来更多惊喜和体验。

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