ASML宣布推出2nm芯片制造设备，英特尔已采购6台

来源：时间：2023-12-19 20:57:35

　　据SamMobile报道，ASML计划在未来几个月内推出用于2nm制程节点的芯片制造设备，将数值孔径（NA）光学性能从0.33提高到0.55。三星则计划在2025年底开始生产2nm芯片。

　　消息称，ASML计划明年产能仅有10台，英特尔已预订了其中6台，但ASML计划在未来几年将产能提高到每年20台。

　　目前，ASML官网列出的EUV光刻机仅有两款——NXE:3600D和NXE:3400C，均配备0.33 NA的反射式投影光学器件及13.5nm EUV光源，分别适用于3/5nm和5/7nm芯片制造。

　　ASML发言人透露，EXE:5200是公司下一代高NA系统，具有更高的光刻分辨率，可将芯片缩小1.7分之一，同时密度增加至2.9倍。

　　此前报道显示，ASML计划于2025年后量产第一台0.55 NA EUV光刻机，并将首先交付给英特尔。英特尔发言人称，公司将成为ASML第一台EXE:5200的买家。相较于EXE:5000，EXE:5200预计将带来几项改进，包括更高的生产率等。

　　根据Gartner分析师Alan Priestley预测，0.55 NA EUV光刻机的单价将翻番至3亿美元。

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